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      襯底支撐件、光刻設備、襯底檢查設備、器件制造方法與流程

      文檔序號:24543058發布日期:2021-04-02 10:27
      襯底支撐件、光刻設備、襯底檢查設備、器件制造方法與流程

      相關申請的交叉引用

      本申請要求歐洲申請18190585.2的優先權,該案在2018年8月23日提交且該案的全部內容以引用的方式并入本文。

      本發明涉及一種襯底支撐件、一種光刻設備、一種襯底檢查設備和一種器件制造方法。



      背景技術:

      光刻設備是一種構造為將所要圖案應用到襯底上的機器。例如,光刻設備可以被用于集成電路(ic)的制造中。例如,光刻設備可以將圖案形成裝置(例如掩模)的圖案(通常還被稱為“設計布局”或“設計”)投影到輻射敏感材料(抗蝕劑)層上,該輻射敏感材料(抗蝕劑)層被設置在襯底(例如晶片)上。襯底檢查設備適合于檢查已經被應用到襯底的圖案。

      隨著半導體制造工藝不斷發展,電路元件的尺寸不斷減小,而每個裝置的功能元件(諸如晶體管)的數量在過去幾十年中沿通常被稱為“摩爾定律”的趨勢穩定增長。為了跟上摩爾定律,半導體行業正在尋求能夠創建越來越小的特征的技術。為了在襯底上投影圖案,光刻設備可以使用電磁輻射。該輻射的波長確定了被圖案化在襯底上的特征的最小大小。當前使用的典型波長是365nm(i線)、248nm、193nm和13.5nm。使用具有在4nm至20nm范圍內(例如6.7nm或13.5nm)的波長的極紫外線(euv)輻射的光刻設備可以被用于比使用例如具有193nm的波長的輻射的光刻設備在襯底上形成更小的特征。

      在已知的光刻工藝中,幾層抗蝕劑層被施加在襯底上。圖案被投影到抗蝕劑層上,然后下一抗蝕劑層被應用,并且隨后的圖案被投影到該下一抗蝕劑層上。該循環被重復多次,之后完成襯底的處理。將后續圖案投影在正確的相對位置處是必要條件。如果后一圖案相對于前一圖案偏移得太遠,則由襯底制成的微芯片中的電連接可能會不合格。

      后一圖案的這種非期望的位置偏移的已知來源是襯底的變形。將襯底裝載到襯底支撐件上會導致襯底變形。例如,在將襯底布置到襯底支撐件上期間,襯底與支撐襯底的表面之間的摩擦是關于此的相關因素。該摩擦對襯底的變形的影響很難預測。

      已知的是,當兩個主體彼此接觸時,這兩個主體之間的相對抖動運動減小了這些主體之間的摩擦。在wo2017/182216中,該原理被應用于將襯底布置在光刻設備的襯底支撐件上。在wo2017/182216的系統中,抖動運動是襯底在襯底的平面中的平移移動。



      技術實現要素:

      本發明的目的是提供一種襯底支撐件,其中襯底的變形在襯底被裝載到襯底支撐件上時,被減小。

      根據本發明的實施例,提供了一種襯底支撐件,其包括:

      -支撐主體,該支撐主體包括用于支撐襯底的支撐表面,

      -旋轉抖動裝置,其被配置成引起襯底與支撐主體的支撐表面之間的繞垂直于支撐表面的旋轉軸線的相對旋轉抖動運動。

      根據本發明,已經發現,當將襯底裝載到所述支撐表面上時,繞垂直于襯底支撐件的支撐表面延伸的旋轉軸線的旋轉抖動運動在減小襯底與襯底支撐件的支撐表面之間的不期望的摩擦方面是有效的。特別地,在將襯底布置在支撐表面上期間由于襯底與支撐表面之間的摩擦而導致的襯底在徑向方向上的變形被減小了。這是通常由于裝載期間的摩擦而導致的襯底的變形最大的方向。

      在襯底與支撐主體的支撐表面之間的相對旋轉抖動運動中,當支撐主體的支撐表面靜止時,襯底可以在旋轉方向上抖動,或當襯底靜止時,支撐主體的支撐表面可以在旋轉方向上抖動,或襯底和支撐主體的支撐表面兩者可以相對于彼此抖動,例如沿相反方向抖動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,旋轉抖動裝置被配置成當襯底與支撐主體的支撐表面的至少一部分接觸時引起襯底與支撐主體的支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。

      當旋轉抖動運動襯底與支撐主體的支撐表面的至少一部分接觸時被應用,旋轉抖動運動是有效的,因為這是襯底與襯底支撐件的支撐主體的支撐表面之間的摩擦發生的時間。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,支撐主體包括多個支撐主體突節,并且支撐主體突節的頂表面一起形成支撐表面。

      支撐主體突節與襯底之間(特別是在襯底的徑向方向上)的摩擦是襯底變形的原因。通過應用根據本發明的旋轉抖動運動,支撐主體突節與襯底之間在徑向方向上的摩擦被減小了,從而使得當將襯底被裝載到襯底支撐件的支撐主體上時襯底的變形較小。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,旋轉抖動裝置被配置成當襯底與支撐主體的支撐表面的至少一部分接觸時引起襯底與支撐主體的支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。此外,在該實施例中,支撐主體包括多個支撐主體突節,并且支撐主體突節的頂表面一起形成支撐表面。此外,在該實施例中,旋轉抖動裝置被配置成當襯底與至少支撐主體突節接觸時,引起襯底與支撐主體的支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括支撐主體保持器,并且支撐主體被布置在支撐主體保持器上,并且旋轉抖動裝置被配置成引起在襯底與支撐主體和支撐主體保持器的組合之間的相對旋轉抖動運動。

      在襯底與支撐主體和支撐主體保持器的組合之間的相對旋轉抖動運動中,當支撐主體和支撐主體保持器的組合靜止時,襯底可以在旋轉方向上抖動,或當襯底靜止時,支撐主體和支撐主體保持器的組合可以在旋轉方向上抖動,或襯底以及支撐主體和支撐主體保持器的組合兩者可以相對于彼此抖動,例如沿相反方向抖動。

      該實施例的優點在于,必須被抖動的質量相對小。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括具有短行程模塊的支撐主體定位器,并且旋轉抖動裝置被配置成引起襯底與支撐主體和短行程模塊的組合之間的相對旋轉抖動運動。

      在襯底與支撐主體和短行程模塊的組合之間的相對旋轉抖動運動中,當支撐主體和短行程模塊的組合靜止時,襯底可以在旋轉方向上抖動,或當襯底靜止時,支撐主體和短行程模塊的組合可以在旋轉方向上抖動,或襯底以及支撐主體和短行程模塊的組合兩者可以相對于彼此抖動,例如沿相反方向抖動。

      該實施例的優點在于,必須被抖動的質量相對小。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括具有短行程模塊的支撐主體定位器,并且旋轉抖動裝置被配置成引起襯底與支撐主體和短行程模塊的組合之間的相對旋轉抖動運動。此外,在該實施例中,支撐主體包括多個臺支撐突節,這些臺支撐突節被配置成將襯底臺支撐在短行程模塊上,這些臺支撐突節被彼此間隔開,并且旋轉抖動裝置包括致動器,該致動器被布置在相鄰臺支撐突節之間的空間中。臺支撐突節例如位于支撐主體的與用于支撐襯底的支撐表面相對的表面上。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括具有短行程模塊和長行程模塊的支撐主體定位器,支撐主體被布置在短行程模塊上,并且旋轉抖動裝置被配置成引起短行程模塊與長行程模塊之間的相對旋轉抖動運動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括具有短行程模塊和長行程模塊的支撐主體定位器,支撐主體被布置在短行程模塊上,并且旋轉抖動裝置被配置成引起襯底與支撐主體、短行程模塊以及長行程模塊的組合之間的相對旋轉抖動運動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括具有短行程模塊和長行程模塊的支撐主體定位器,支撐主體被布置在短行程模塊上,并且旋轉抖動裝置被配置成引起短行程模塊與長行程模塊之間的相對旋轉抖動運動。此外,在該實施例中,支撐主體定位器包括致動器,該致動器被配置成引起短行程模塊與長行程模塊之間的相對運動,并且旋轉抖動裝置包括致動器控制器,該致動器控制器被配置成控制支撐主體定位器的致動器以引起短行程模塊與長行程模塊之間的旋轉抖動運動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括襯底定位器,該襯底定位器被配置成將襯底布置在支撐主體的支撐表面上。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括襯底定位器,該襯底定位器被配置成將襯底布置在支撐主體的支撐表面上。此外,在該實施例中,旋轉抖動裝置被配置成引起襯底定位器與襯底支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。

      在襯底定位器與支撐主體的支撐表面之間的相對旋轉抖動運動中,當支撐主體的支撐表面靜止時,襯底定位器可以在旋轉方向上抖動,或當襯底定位器靜止時,支撐主體的支撐表面可以在旋轉方向上抖動,或襯底定位器和支撐主體的支撐表面兩者可以相對于彼此抖動,例如沿相反方向抖動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括襯底定位器,該襯底定位器被配置成將襯底布置在支撐主體的支撐表面上。此外,在該實施例中,旋轉抖動裝置被配置成引起襯底定位器與襯底支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。此外,在該實施例中,襯底定位器包括裝載銷,并且旋轉抖動裝置被配置成引起裝載銷與襯底支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。

      在裝載銷與支撐主體的支撐表面之間的相對旋轉抖動運動中,當支撐主體的支撐表面靜止時,裝載銷可以在旋轉方向上抖動,或當裝載銷靜止時,支撐主體的支撐表面可以在旋轉方向上抖動,或裝載銷和支撐主體的支撐表面兩者可以相對于彼此抖動,例如沿相反方向抖動。

      根據本發明的實施例,提供了一種襯底支撐件,其包括:

      -支撐主體,該支撐主體包括用于支撐襯底的支撐表面,

      -襯底定位器,其被配置成將襯底布置在支撐主體的支撐表面上,

      -旋轉抖動裝置,其被配置成引起襯底定位器與襯底支撐表面之間的相對旋轉抖動運動。

      該實施例可以與本發明的所有其他實施例組合。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,支撐表面在支撐表面平面中延伸,并且旋轉抖動裝置被配置成在引起襯底與支撐主體的支撐表面之間的在平行于支撐表面平面的平面中的相對旋轉抖動運動。

      在根據本發明的襯底支撐件的實施例中,襯底支撐件還包括襯底定位器,該襯底定位器被配置成將襯底布置在支撐主體的支撐表面上。此外,在該實施例中,襯底定位器被配置成在將襯底布置在支撐主體的支撐表面上的同時將襯底保持在襯底平面中,并且旋轉抖動裝置被配置成引起襯底與支撐主體的支撐表面之間的在平行于或至少基本上平行于襯底平面的平面中的相對旋轉抖動運動。

      在本發明的另一實施例中,提供一種光刻設備,該光刻設備包括根據本發明的襯底支撐件。

      在根據本發明的光刻設備的實施例中,該光刻設備包括投影系統和用于相對于投影系統定位襯底的襯底定位系統,并且該襯底定位系統包括根據本發明的襯底支撐件。

      在根據本發明的光刻設備的實施例中,光刻設備包括襯底預對準裝置,并且該襯底預對準裝置包括根據本發明的襯底支撐件。

      在根據本發明的光刻設備的實施例中,光刻設備包括被配置成使襯底的溫度穩定的襯底熱穩定裝置,并且該襯底熱穩定裝置包括根據本發明的襯底支撐件。

      在本發明的另一實施例中,提供一種襯底檢查設備,該襯底檢查設備包括根據本發明的襯底支撐件。

      在本發明的另一實施例中,提供了一種器件制造方法,該器件制造方法包括將圖案從圖案形成裝置轉印到襯底上,該器件制造方法包括使用根據本發明的光刻設備的步驟。

      附圖說明

      現在將參考隨附示意圖僅通過示例描述本發明的實施例,在圖中:

      -圖1描繪了光刻設備的示意性概述;

      -圖2描繪了圖1的光刻設備的一部分的詳細視圖;

      -圖3示意性地描繪了位置控制系統;

      -圖4示意性地示出了將襯底w裝載到襯底支撐件上的方法的示例中的步驟,

      -圖5示意性地示出了將襯底w裝載到襯底支撐件上的方法的示例中的后一步驟,

      -圖6示意性地示出了將襯底w裝載到襯底支撐件上的方法的示例中的后一步驟,

      -圖7示意性地示出了將襯底w裝載到襯底支撐件上的方法的示例中的后一步驟,

      -圖8示意性地示出了根據本發明的襯底支撐件1的第一實施例,

      -圖9示意性地示出了根據本發明的襯底支撐件1的第二實施例,

      -圖10示意性地示出了根據本發明的襯底支撐件1的第三實施例,

      -圖11示意性地示出了光刻設備或襯底檢查設備包括被配置成將襯底w布置在襯底支撐件上的襯底夾持器的實施例,

      -圖12示出了旋轉抖動裝置的實施例。

      具體實施方式

      在本文檔中,術語“輻射”和“光束”被用于涵蓋所有類型的電磁輻射,包括紫外線輻射(例如具有365、248、193、157或126nm的波長)和euv(極紫外線輻射,例如具有約5-100nm的范圍內的波長)。

      本文中所采用的術語“掩模版”、“掩?!被颉皥D案形成裝置”可以被廣義地解釋為是指通用圖案形成裝置,其可以被用于為入射輻射束賦予圖案化的橫截面,該圖案化的橫截面對應于將在襯底的目標部分中創建的圖案。在該上下文中也可以使用術語“光閥”。除了經典的掩模(透射或反射、二進制、相移、混合等)之外,其他這種圖案形成裝置的示例還包括可編程反射鏡排列和可編程lcd排列。

      圖1示意性地描繪了光刻設備la。光刻設備la包括:照射系統(也被稱為照射器)il,被配置成調節輻射光束b(例如uv輻射、duv輻射或euv輻射);掩模支撐件(例如掩模臺)mt,被構造成支撐圖案形成裝置(例如掩模)ma并被連接到第一定位器pm,該第一定位器被配置成根據某些參數準確地定位圖案形成裝置ma;支撐主體(例如晶片臺)wt,被構造成保持襯底(例如涂覆抗蝕劑的晶片)w并被連接到第二定位器pw,該第二定位器被配置成根據某些參數準確地定位支撐主體wt;以及投影系統(例如折射投影透鏡系統)ps,被配置成將被圖案形成裝置ma賦予給輻射光束b的圖案投影到襯底w的目標部分c(例如,包括一個或多個管芯)上。

      在操作中,照射系統il從輻射源so經由光束傳遞系統bd接收輻射光束。照射系統il可以包括各種類型的光學部件,諸如折射、反射、磁性、電磁、靜電和/或其他類型的光學部件,或其任何組合,以用于引導、成形和/或控制輻射。照射器il可以被用于調節輻射光束b以在圖案形成裝置ma的平面處在其橫截面中具有期望的空間和角強度分布。

      本文中所使用的術語“投影系統”ps應該被廣義地解釋為涵蓋各種類型的投影系統,包括折射、反射、折反射、失真、磁性、電磁和/或靜電光學系統,或其任何組合,以適于被使用的曝光輻射和/或其他因素,諸如使用浸沒液體或使用真空。本文中術語“投影透鏡”的任何使用可以被視為與更一般的術語“投影系統”ps同義。

      光刻設備la可以屬于這種類型,其中襯底的至少一部分可以由具有相對高的折射率的液體(例如水)覆蓋,以便填充投影系統ps與襯底w之間的空間——這也被稱為浸沒光刻。關于浸沒技術的更多信息在us6952253中給出,其以引用的方式并入本文。

      光刻設備la也可以是具有兩個或更多個支撐主體wt的類型(也被稱為“雙工作臺”)。在這種“多工作臺”機器中,支撐主體wt可以被并行地使用,和/或準備襯底w的后一曝光的步驟可以在位于支撐主體wt中的一個上的襯底w上實行,而另一支撐主體wt上的另一襯底w被用于在另一襯底w上曝光圖案。

      除了支撐主體wt之外,光刻設備la可以包括測量工作臺。測量工作臺被布置成保持傳感器和/或清潔裝置。傳感器可以被布置成測量投影系統ps的性質或輻射光束b的性質。測量工作臺可以保持多個傳感器。清潔裝置可以被布置成清潔光刻設備的一部分,例如投影系統ps的一部分或提供浸沒液體的系統的一部分。當支撐主體wt遠離投影系統ps時,測量工作臺可以在投影系統ps下方移動。

      在操作中,輻射光束b入射在圖案形成裝置(例如掩模ma)上,該圖案形成裝置被保持在掩模支撐件mt上,并且通過圖案形成裝置ma上的圖案(設計布局)被圖案化。在穿過圖案形成裝置ma之后,輻射光束b穿過投影系統ps,該投影系統將光束聚焦到襯底w的目標部分c上。借助于第二定位器pw和位置測量系統if,支撐主體wt可以被準確地移動,例如,以便在輻射光束b的路徑中將不同的目標部分c定位在聚焦和對準的位置處。類似地,第一定位器pm以及可能的另一位置傳感器(在圖1中未明確描繪)可以被用于相對于輻射光束b的路徑準確地定位圖案形成裝置ma??梢允褂醚谀蕵擞沵1、m2和襯底對準標記p1、p2來對準圖案形成裝置ma和襯底w。盡管如所圖示的襯底對準標記p1、p2占據專用的目標部分,但是它們可以位于目標部分之間的空間中。當襯底對準標記p1、p2位于目標部分c之間時,它們被稱為劃線對準標記。為了闡明本發明,使用笛卡爾坐標系。笛卡爾坐標系具有三個軸,即x軸、y軸和z軸。三個軸中的每個軸都與其他兩個軸正交。繞x軸的旋轉被稱為rx旋轉。繞y軸的旋轉被稱為ry旋轉。繞大約z軸的旋轉被稱為rz旋轉。x軸和y軸限定水平面,而z軸處于豎直方向上。笛卡爾坐標系不限制本發明并且僅被用于闡明。相反,可以使用另一坐標系(諸如圓柱坐標系)來闡明本發明。笛卡爾坐標系的定向可以不同,例如,以使得z軸具有沿著水平面的分量。

      圖2示出了圖1的光刻設備la的一部分的更詳細視圖。光刻設備la可以被設置有底座bf、平衡質量bm、量測框架mf和振動隔離系統is。量測框架mf支撐投影系統ps。附加地,量測框架mf可以支撐位置測量系統pms的一部分。量測框架mf經由振動隔離系統is由底座bf支撐。振動隔離系統is被布置成防止或減小振動從底座bf傳播到量測框架mf。

      第二定位器pw被布置成通過在支撐主體wt與平衡質量bm之間提供驅動力來使支撐主體wt加速。驅動力在期望的方向上使支撐主體wt加速。由于動量守恒,驅動力也以相等的大小但在與期望的方向相反的方向處被施加至平衡質量bm。通常,平衡質量bm的質量明顯大于第二定位器pw和支撐主體wt的移動部分的質量。

      在實施例中,第二定位器pw由平衡質量bm支撐。例如,其中第二定位器pw包括平面電動機,以使支撐主體wt懸浮在平衡質量bm上方。在另一實施例中,第二定位器pw由底座bf支撐。例如,其中第二定位器pw包括線性電動機,并且其中第二定位器pw包括軸承,如氣體軸承,以使支撐主體wt懸浮在底座bf上方。

      位置測量系統pms可以包括適合于確定支撐主體wt的位置的任何類型的傳感器。位置測量系統pms可以包括適合于確定掩模支撐件mt的位置的任何類型的傳感器。傳感器可以是光學傳感器,諸如干涉儀或編碼器。位置測量系統pms可以包括干涉儀和編碼器的組合系統。傳感器可以是另一類型的傳感器,諸如磁傳感器、電容傳感器或電感傳感器。位置測量系統pms可以確定相對于參考(例如量測框架mf或投影系統ps)的位置。位置測量系統pms可以通過測量位置或通過測量位置的時間導數(諸如速度或加速度)來確定襯底臺wt和/或掩模支撐件mt的位置。

      位置測量系統pms可以包括編碼器系統。編碼器系統從例如在此以引用的方式并入的2006年9月7日提交的美國專利申請us2007/0058173a1中已知。編碼器系統包括編碼器頭、光柵和傳感器。編碼器系統可以接收初級輻射光束和次級輻射光束。初級輻射光束以及次級輻射光束都源自相同的輻射光束,即原始輻射光束。通過用光柵衍射原始輻射光束來產生初級輻射光束和次級輻射光束中的至少一個。如果通過用光柵衍射原始輻射光束來創建初級輻射光束和次級輻射光束兩者,則初級輻射光束需要具有與次級輻射光束不同的衍射階。不同的衍射階是例如+1階、-1階、+2階和-2階。編碼器系統將初級輻射光束和次級輻射光束以光學方式組合成組合的輻射光束。編碼器頭中的傳感器確定該組合的輻射光束的相位或相位差。傳感器基于相位或相位差生成信號。信號表示編碼器頭相對于光柵的位置。編碼器頭和光柵中的一個可以被布置在襯底結構wt上。編碼器頭和光柵中的另一個可以被布置在量測框架mf或底座bf上。例如,多個編碼器頭被布置在量測框架mf上,而光柵被布置在支撐主體wt的頂表面上。在另一示例中,光柵被布置在支撐主體wt的底表面上,并且編碼器頭被布置在支撐主體wt下面。

      位置測量系統pms可以包括干涉儀系統。干涉儀系統從例如在此以引用的方式并入的1998年7月13日提交的美國專利us6,020,964中已知。干涉儀系統可以包括分束器、反射鏡、參考反射鏡和傳感器。輻射光束由分束器分成參考光束和測量光束。測量光束傳播到反射鏡,并被反射鏡反射回分束器。參考光束傳播到參考反射鏡,并被參考反射鏡反射回分束器。在分束器處,測量光束和參考光束被組合成組合的輻射光束。組合的輻射光束入射到傳感器上。傳感器確定組合的輻射光束的相位或頻率。傳感器基于相位或頻率生成信號。信號表示反射鏡的位移。在實施例中,反射鏡被連接到支撐主體wt。參考反射鏡可以被連接到量測框架mf。在實施例中,測量光束和參考光束通過附加的光學部件而不是分束器被組合成組合的輻射光束。

      第一定位器pm可以包括長行程模塊和短行程模塊。短行程模塊被布置成在小的移動范圍內以高精確度相對于長行程模塊移動掩模支撐件mt。長行程模塊被布置成在大的移動范圍內以相對低的精確度相對于投影系統ps移動短行程模塊。利用長行程模塊和短行程模塊的組合,第一定位器pm能夠在大的移動范圍內以高的精確度相對于投影系統ps移動掩模支撐件mt。類似地,第二定位器pw可以包括長行程模塊和短行程模塊。短行程模塊被布置成在小的移動范圍內以高的精確度相對于長行程模塊移動掩模支撐主體wt。長行程模塊被布置成在大的移動范圍內以相對低的精確度相對于投影系統ps移動短行程模塊。利用長行程模塊和短行程模塊的組合,第二定位器pw能夠在大的移動范圍內以高的精確度相對于投影系統ps移動支撐主體wt。短行程模塊被布置成相對于長行程模塊移動支撐主體wt,而長行程模塊被布置成移動短行程模塊。短行程模塊可以使支撐主體wt在第一移動范圍內的方向上移動。長行程模塊可以使短行程模塊在大于第一移動范圍的第二移動范圍內的方向上移動。

      第一定位器pm和第二定位器pw各自被設置有致動器,以分別移動掩模支撐件mt和支撐主體wt。致動器可以是線性致動器,以沿單個軸(例如y軸)提供驅動力??梢詰枚鄠€線性致動器來沿多個軸線提供驅動力。致動器可以是平面致動器,以沿多個軸線提供驅動力。例如,平面致動器可以被布置成使支撐主體wt以6個自由度移動。致動器可以是包括至少一個線圈和至少一個磁體的電磁致動器。致動器被布置成通過向至少一個線圈施加電流來使至少一個線圈相對于至少一個磁體移動。致動器可以是移動磁體型致動器,其具有至少一個磁體,被分別耦合到支撐主體wt及掩模支撐件mt。致動器可以是移動線圈型致動器,其具有至少一個線圈,被分別耦合到支撐主體wt及掩模支撐件mt。致動器可以是音圈致動器、磁阻致動器、洛倫茲致動器或壓電致動器,或任何其他合適的致動器。

      光刻設備la包括如圖3中示意性描繪的位置控制系統pcs。位置控制系統pcs包括設定值生成器sp、前饋控制器ff和反饋控制器fb。位置控制系統pcs向致動器act提供驅動信號。致動器act可以是第一定位器pm或第二定位器pw的致動器。致動器act驅動設備p,該設備可以包括支撐主體wt或掩模支撐件mt。設備p的輸出是位置量,諸如位置或速度或加速度。位置量利用位置測量系統pms測量。位置測量系統pms生成信號,該信號是表示設備p的位置量的位置信號。設定值生成器sp生成信號,該信號是表示設備p的期望位置量的參考信號。例如,參考信號表示支撐主體wt的期望軌跡。參考信號與位置信號之間的差異形成反饋控制器fb的輸入?;谳斎?,反饋控制器fb為致動器act提供驅動信號的至少一部分。參考信號可以形成前饋控制器ff的輸入?;谳斎?,前饋控制器ff為致動器act提供驅動信號的至少一部分。前饋ff可以利用關于設備p的動力學特性的信息,諸如質量、剛度、共振模式和本征頻率。

      圖4-7示出了將襯底w裝載到襯底支撐件1上的方法的示例。

      在圖4-7的示例中,襯底支撐件1包括支撐主體wt,該支撐主體例如是襯底臺或晶片臺。襯底主體wt被設置有多個支撐主體突節12。這些支撐主體突節12的頂表面一起形成用于支撐襯底w的支撐表面11。支撐表面11在x-y平面內延伸。

      在圖4-7的示例中,襯底支撐件1還包括支撐主體定位器15(其是或包括例如第二定位器pw),該支撐主體定位器具有短行程模塊20和長行程模塊30。襯底支撐主體wt被布置到支撐主體定位器15的短行程模塊20上并與其一起移動。短行程模塊20被安裝在長行程模塊30上。短行程致動器21(其例如是線性電動機)相對于長行程模塊30移動帶有支撐主體wt的短行程模塊20與。

      長行程模塊30通過長行程致動器31移動,該長行程致動器例如是平面電動機。長行程致動器31例如相對于光刻設備的底座bf或襯底檢查設備的底座移動長行程模塊30。

      在圖4-7的示例中,襯底支撐件1還包括襯底定位器34,該襯底定位器包括多個裝載銷33。例如,提供了三個裝載銷33。裝載銷33可在z方向上移動,因而垂直于支撐表面11移動。在x-y平面中,裝載銷33例如與長行程模塊30一起移動和/或被耦合到該長行程模塊。長行程模塊30被設置有孔32,裝載銷33延伸通過這些孔。短行程模塊20被設置有孔22,裝載銷33延伸通過這些孔。支撐主體wt被設置有孔13,裝載銷33延伸通過這些孔。

      可以使用根據本發明的襯底支撐件1的光刻設備或襯底檢查設備通常還包括襯底夾持器2,以用于將襯底w帶到襯底支撐件1。

      在圖4-7的襯底裝載方法中,最初,襯底定位器34的裝載銷33處于其最高位置。在該位置中,裝載銷33在支撐主體wt的支撐表面11上方延伸。襯底夾持器2保持襯底w并將襯底w帶到裝載銷33的上端。這種情況在圖4中示出。

      圖5示出了示例性襯底裝載方法中的后一階段。襯底夾持器2已將襯底w布置在裝載銷33的頂部。襯底夾持器2已經釋放了襯底w并且從襯底支撐件1移開。襯底w擱置在裝載銷33上。在該位置中,襯底w在x-y平面中延伸,從而平行于或至少基本上平行于支撐表面11。

      圖6示出了示例性襯底裝載方法中的另一后續階段。裝載銷33在z方向上向下移動以使襯底w與支撐主體wt的支撐表面11接觸,該支撐表面11在該實施例中由支撐主體突節12的頂部形成。這是襯底w與支撐主體wt的支撐表面11接觸并且支撐表面11與襯底w之間的摩擦開始發生的時間。因此,在襯底裝載方法的該部分中,應用根據本發明的相對旋轉抖動運動是有利的。

      圖7示出了示例性襯底裝載方法中的另一后續階段。裝載銷33在z方向上進一步向下移動,并由此釋放襯底w?,F在,襯底w擱置在支撐主體wt的支撐表面1上。夾具(諸如真空夾具或靜電夾具)可以被應用以將襯底w固定到支撐主體wt的支撐表面11上。在裝載銷33從如圖6中所見的位置向下移動之前,夾具可以可選地已經提供夾持力。由于夾持力,襯底w可在一個或多個支撐主體突節12的頂部上方局部地移動,由此引起襯底w的進一步變形。當夾持力不僅被用于將襯底w固定到支撐表面11上的位置中,而且在該襯底到達襯底支撐件1時被用于使有些彎曲的襯底變平的情形中尤其是這種情況。因此,也在襯底裝載方法的該部分中,應用根據本發明的相對旋轉抖動運動是有利的。

      圖8示出了根據本發明的襯底支撐件1的第一實施例。圖8的襯底支撐件1具有與如圖4-7中所示出的襯底支撐件類似的構造。相同的附圖標記指示襯底支撐件1的相同元件。

      因此,在圖8的實施例中,襯底支撐件1包括支撐主體wt,該支撐主體wt包括用于支撐襯底w的支撐表面11。支撐表面11由支撐主體突節12的頂表面形成。

      在圖8的實施例中,襯底支撐件1還包括旋轉抖動裝置50,該旋轉抖動裝置被配置成引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的繞垂直于支撐表面11的旋轉軸線的相對旋轉抖動運動,因此在該示例中是在x-y平面中繞z軸的相對旋轉抖動運動。在該實施例中,旋轉抖動裝置50被布置在支撐主體wt與短行程模塊20之間。備選地,旋轉抖動裝置50被布置在不同的位置處,但是被配置成控制致動器(其可以是或可以不是旋轉抖動裝置本身的一部分),該致動器引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的、繞垂直于支撐表面11的旋轉軸線的相對旋轉抖動運動。

      在該實施例中,襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動通過將襯底w支撐在裝載銷33上而同時在x-y平面中繞z軸抖動支撐主體wt被獲得。當發生抖動時,襯底w已經與至少一個支撐主體突節12的頂部接觸。旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w與支撐主體wt的支撐表面11的表面的至少一部分接觸時,或在襯底w與支撐主體wt的支撐表面11的表面的至少一部分接觸之前,開始引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動??蛇x地,抖動繼續,直到所有支撐主體突節12都與襯底w完全接觸為止或之后,和/或直到襯底被夾持到支撐主體wt上為止。因此,在該實施例中,旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w與支撐主體wt的支撐表面11的至少一部分接觸時,引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動。

      在該實施例中,旋轉抖動裝置引起襯底(其擱置在裝載銷33上)與支撐主體wt之間的旋轉抖動運動。裝載銷33相對于短行程模塊20和/或長行程模塊30在x-y平面中保持靜止。

      在圖8的實施例的變型中,支撐主體wt被支撐到支撐主體保持器上,而不是被支撐在支撐主體定位器15的短行程模塊20上。支撐主體保持器可以是可移動的或靜止的。例如,支撐主體保持器可以被布置在光刻設備或襯底檢查設備中。例如,支撐主體保持器可以相對于光刻設備或襯底檢查設備的底座bf是可移動的或靜止的。

      在圖8的實施例中,支撐主體wt被支撐到支撐主體定位器15的短行程模塊20上。在z方向(即豎直方向)上,支撐主體wt可選地由一個或多個支撐突節23支撐到短行程模塊20上(或在支撐主體保持器上),這一個或多個支撐突節可選地被設置在支撐主體wt上,例如在支撐主體wt的與支撐表面11相對的表面上,例如在支撐主體wt的下側處。優選地,提供了彼此間隔開的多個臺支撐突節23。臺支撐突節23在x-y平面中是柔性的,以便允許支撐主體wt與短行程模塊20(或支撐主體保持器)之間的相對旋轉抖動運動??蛇x地,臺支撐突節23在z方向上比支撐主體突節12長??蛇x地,另外,提供了一個或多個支撐止動件24。支撐止動件24在z方向上具有相對高的剛度,以便在z方向上相對于短行程模塊20(或支撐主體保持器)提供支撐主體wt的精確定位。在該實施例中,旋轉抖動裝置50包括致動器,該致動器被布置在臺支撐突節23和/或支撐止動件24之間的空間中。備選地,旋轉抖動裝置50控制致動器,該致動器被布置在臺支撐突節23和/或支撐止動件24之間的空間中。

      可選地,在圖8的實施例中,提供了襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的附加的相對抖動運動。附加的抖動運動發生在與繞垂直于支撐表面11的軸線的相對旋轉抖動運動不同的方向上。例如,附加的相對抖動運動發生在z方向(即豎直方向)上。

      例如,這種情況可以通過提供平移抖動裝置來實現,該平移抖動裝置被配置成在支撐主體wt在z方向上保持靜止的同時在z方向上抖動襯底定位器34的裝載銷33,或被配置成在襯底定位器34的裝載銷33在z方向上保持靜止的同時在z方向上抖動支撐主體wt,或被配置成在z方向上抖動支撐主體wt和襯底定位器34的裝載銷33兩者,以使得發生z方向上的相對抖動運動??蛇x地,旋轉抖動裝置和平移抖動裝置被組合成多方向抖動裝置。

      圖9示出了根據本發明的襯底支撐件1的第二實施例。圖9的襯底支撐件1具有與如圖4-7中所示出的襯底支撐件和如圖8中所示出的襯底支撐件1相似的構造。相同的附圖標記指示襯底支撐件1的相同元件。

      因此,在圖9的實施例中,襯底支撐件1包括支撐主體wt,該支撐主體wt包括用于支撐襯底w的支撐表面11。支撐表面11由支撐主體突節12的頂表面形成。

      在圖9的實施例中,襯底支撐件1還包括旋轉抖動裝置50。旋轉抖動裝置50被配置成引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的繞垂直于支撐表面11的旋轉軸線的相對旋轉抖動運動,因此在該示例中在x-y平面中繞z軸的相對旋轉抖動運動。

      在該實施例中,襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動通過將襯底w支撐在襯底定位器34的裝載銷33上而同時在x-y平面中繞z軸抖動支撐主體定位器15的短行程模塊20被獲得。旋轉抖動裝置引起短行程模塊20相對于長行程模塊30的旋轉抖動運動。裝載銷33相對于長行程模塊30在x-y平面中保持靜止。支撐主體被支撐在短行程模塊20上并且與短行程模塊20一起移動。

      當發生抖動時,襯底w已經與至少一個支撐主體突節12的頂部接觸。旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w的至少一部分與至少一個支撐主體突節12接觸時或在襯底w的至少一部分與至少一個支撐主體突節12接觸之前,開始引起襯底w與支撐主體突節12之間的相對旋轉抖動運動??蛇x地,抖動繼續進行,直到所有支撐主體突節12都與襯底w接觸為止或之后,和/或直到將襯底夾持到支撐主體wt上為止。因此,在該實施例中,旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w與支撐主體wt的支撐表面11的至少一部分接觸時,引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動。

      在圖9的實施例中,支撐主體wt例如以固定方式被支撐到短行程模塊20上。支撐主體wt可以例如被布置在短行程模塊20中的凹部中。

      在圖9的實施例中,旋轉抖動裝置50通過控制連接52被連接到支撐主體定位器15的短行程致動器21??刂七B接52可以是有線連接或無線連接。在該實施例中,旋轉抖動裝置50包括致動器控制器53,該致動器控制器被配置成控制短行程致動器21,以使短行程模塊20在x-y平面中繞z方向相對于長行程模塊30實行旋轉抖動運動。備選地,旋轉抖動裝置50可以被設置有致動器,該致動器被配置成相對于長行程模塊30移動短行程模塊20。

      在圖9的實施例的變型中,支撐主體wt被支撐到支撐主體保持器上,而不是被支撐在短行程模塊20上。例如,支撐主體保持器可以被布置在光刻設備或襯底檢查設備中。例如,支撐主體保持器可以相對于光刻設備或襯底檢查設備的底座bf移動。在該變型中,例如,旋轉抖動裝置引起支撐主體保持器相對于底座bf的旋轉抖動運動。

      可選地,在圖9的實施例中,提供了襯底w與支撐主體wt的支撐表面12之間的附加的相對抖動運動。附加的抖動運動發生在與繞垂直于支撐表面12的軸線的相對旋轉抖動運動不同的方向上。例如,附加的相對抖動運動發生在z方向(即豎直方向)上。

      例如,這種情況可以通過提供平移抖動裝置來實現,該平移抖動裝置被配置成在支撐主體wt和支撐主體定位器15的短行程模塊20在z方向上保持靜止的同時在z方向上抖動襯底定位器34的裝載銷33,或被配置成在襯底定位器34的裝載銷33在z方向上保持靜止的同時在z方向上抖動支撐主體wt和支撐主體定位器15的短行程模塊20,或被配置成在z方向上抖動支撐主體wt以及短行程模塊20和裝載銷33兩者,以使得發生在z方向上的相對抖動運動??蛇x地,旋轉抖動裝置和平移抖動裝置被組合成多方向抖動裝置。

      圖10示出了根據本發明的襯底支撐件1的第三實施例。圖10的襯底支撐件1具有與如圖4-7中所示出的襯底支撐件和如圖8和圖9中所示出的襯底支撐件1相似的構造。相同的附圖標記指示襯底支撐件1的相同元件。

      因此,在圖10的實施例中,襯底支撐件1包括支撐主體wt,該支撐主體wt包括用于支撐襯底w的支撐表面11。支撐表面11由支撐主體突節12的頂表面形成。

      在圖10的實施例中,襯底支撐件1還包括旋轉抖動裝置50,在該實施例中,該旋轉抖動裝置接合襯底定位器34的裝載銷33。旋轉抖動裝置50被配置成引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的繞垂直于支撐表面11的旋轉軸線的相對旋轉抖動運動,因此在該示例中是在x-y平面中繞z軸的相對旋轉抖動運動。

      在該實施例中,襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動通過將襯底w支撐在支撐主體wt的支撐表面11上而同時在x-y平面中繞z軸抖動襯底定位器34的裝載銷33被獲得。旋轉抖動裝置50引起裝載銷33相對于支撐主體wt的支撐表面11的旋轉抖動運動。支撐主體wt的支撐表面11在x-y平面中保持靜止。

      當發生抖動時,襯底w已經與至少一個支撐主體突節12的頂部接觸。旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w的至少一部分與至少一個支撐主體突節12接觸時或在襯底w的至少一部分與至少一個支撐主體突節12接觸之前,開始引起襯底w與支撐主體突節12之間的相對旋轉抖動運動??蛇x地,抖動繼續進行,直到所有支撐主體突節12都與襯底w接觸為止或之后,和/或直到將襯底夾持到支撐主體wt上為止。因此,在該實施例中,旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w與支撐主體wt的支撐表面11的至少一部分接觸時,引起襯底w與支撐主體wt的支撐表面11之間的相對旋轉抖動運動。

      在圖10的實施例的變型中,支撐主體wt被支撐到支撐主體保持器上,而不是被支撐在短行程模塊20上。例如,支撐主體保持器可以被布置在光刻設備或襯底檢查設備中。例如,支撐主體保持器可以相對于光刻設備或襯底檢查設備的底座bf靜止。在該變型中,例如,旋轉抖動裝置引起裝載銷33相對于支撐主體保持器的旋轉抖動運動。

      在圖10的實施例中,支撐主體wt例如以固定方式被支撐到支撐主體定位器15的短行程模塊20上。支撐主體wt可以例如被布置在短行程模塊20中的凹部中。

      在圖10的實施例中,旋轉抖動裝置50直接或間接地被連接到襯底定位器34的裝載銷33。旋轉抖動裝置50可以例如接合裝載銷33。

      在該實施例的變型中,旋轉抖動裝置50可以被連接到長行程模塊50,在該變型中,該長行程模塊然后以使得裝載銷33與長行程模塊50一起移動的方式被連接到裝載銷33。旋轉抖動裝置50可選地包含致動器,該致動器將旋轉抖動運動施加在長行程模塊50上。備選地,旋轉抖動裝置通過控制連接被連接到長行程致動器31??刂七B接可以是有線連接或無線連接。在該實施例中,旋轉抖動裝置被配置成控制長行程致動器31,以使長行程模塊30相對于短行程模塊30和支撐主體wt在x-y平面中繞z方向實行旋轉抖動運動。

      可選地,在圖10的實施例中,提供了襯底w與支撐主體wt的支撐表面12之間的附加的相對抖動運動。附加的抖動運動發生在與繞垂直于支撐表面12的軸線的相對旋轉抖動運動不同的方向上。例如,附加的相對抖動運動發生在z方向(即豎直方向)上。

      例如,這種情況可以通過提供平移抖動裝置來實現,該平移抖動裝置被配置成在支撐主體wt和支撐主體定位器14的短行程模塊20在z方向上保持靜止的同時在z方向上抖動襯底定位器34的裝載銷33,或被配置成在裝載銷33在z方向上保持靜止的同時在z方向上抖動支撐主體wt和短行程模塊20,或被配置成在z方向上抖動支撐主體wt以及短行程模塊20和裝載銷33兩者,以使得發生在z方向上的相對抖動運動??蛇x地,旋轉抖動裝置和平移抖動裝置被組合成多方向抖動裝置。

      在圖10的實施例中,旋轉抖動裝置50也可以在襯底夾持器2將襯底w布置在裝載銷33上時,因此在裝載銷33將襯底w布置在支撐主體wt的支撐表面11上之前,被啟動。這樣,減少了由于裝載銷33與襯底w之間的摩擦引起的襯底w的變形。

      如圖8、9和10中所示出的實施例可以例如被應用于光刻設備中或襯底檢查設備中。

      在實施例中,光刻設備包括投影系統ps和用于相對于投影系統ps定位襯底w的襯底定位系統。在該實施例中,襯底定位系統可以包括根據如圖8、9和10中所示出的實施例中的一個實施例的襯底支撐件1。

      在實施例中,光刻設備包括襯底預對準裝置。在該實施例中,襯底預對準裝置可以包括根據如圖8、9和10中所示出的實施例中的一個實施例的襯底支撐件。

      在實施例中,光刻設備包括熱穩定裝置。熱穩定裝置被配置成使襯底w的溫度穩定。熱穩定裝置可以被布置成使襯底w達到期望溫度和/或使襯底w達到均勻溫度。熱穩定裝置可以包括具有溫度受控的流體的通道。熱穩定裝置可以向襯底w提供氣體,諸如清潔空氣,其中氣體具有受控的溫度。在該實施例中,熱穩定裝置可以包括根據如圖8、9和10中所示出的實施例中的一個實施例的襯底支撐件。

      圖11示出了光刻設備或襯底檢查設備包括被配置成將襯底w布置在襯底支撐件1上的襯底夾持器2的實施例。例如,襯底夾持器2被配置成將襯底w布置在襯底支撐件1的襯底定位器34的裝載銷33上。襯底支撐件1可以例如是如圖4-7、8、9和10中所示出的襯底支撐件1。襯底夾持器2被配置成在將襯底w布置在襯底支撐件1的裝載銷33上的同時將襯底w保持在襯底平面中。

      在該實施例中,襯底夾持器可以被設置有旋轉抖動裝置50,該旋轉抖動裝置被配置成引起襯底w與裝載銷33之間的繞垂直于襯底平面的軸線51的相對旋轉抖動運動。

      這樣,減少了由于裝載銷33與襯底w之間的摩擦引起的襯底w的變形。

      在實施例中,襯底夾持器是被布置成以非接觸方式處置襯底w的伯努利(bernoulli)夾持器。通過沿著襯底w施加氣流,伯努利夾持器可以經由在夾持器和襯底w之間引起減小的壓力的快速流動的氣膜保持襯底w。該減小的壓力使得襯底被偏壓朝向夾持器,但是同時氣膜防止了襯底w與夾持器之間的機械接觸。氣膜防止了襯底w與襯底夾持器之間的機械接觸。伯努利夾持器可以保持襯底w的上側,即,在襯底w的成像有圖案的一側。通過保持上側,伯努利夾持器可以將襯底w放置在支撐表面11上,而無需使用裝載銷33。在該實施例中,旋轉抖動裝置50被配置成當襯底w被襯底夾持器保持時,引起襯底w與支撐表面11之間的繞垂直于襯底平面的軸線51的相對旋轉抖動運動。

      圖12示出了旋轉抖動裝置50的實施例。

      在該實施例中,提供了框架100,抖動裝置的幾個元件可以被連接到該框架。然而,當抖動裝置50被用于例如光刻設備或襯底檢查設備中時,可以省去框架100。相反,抖動裝置50的相應元件可以分別被連接到光刻設備或襯底檢查設備的元件。

      在圖12的實施例中,抖動裝置50包括抖動裝置致動器102。在該實施例中,這是線性致動器,例如壓電致動器或洛倫茲致動器。在該實施例中,線性致動器102被布置成在x-y平面中操作,該x-y平面平行于支撐表面11延伸的平面。

      在圖12的實施例中,抖動裝置致動器102被耦合到運動轉移主體101,該運動轉移主體在該情況下具有三角形形狀。運動轉移主體101通過兩個直板簧105、106被連接到框架。此外,運動轉移主體101通過兩個直板簧108、111和通過兩個彎板簧107、112被耦接到要抖動的物體。在圖12的實施例中,要抖動的物體是支撐主體wt。在圖12的實施例的變型中,要抖動的物體可以是不同的。例如,要抖動的物體可以是短行程模塊20或裝載銷33。

      要抖動的物體通過直板簧109、110被連接到框架100。

      板簧105、106、107、108、109、110、111、112的配置使得抖動裝置致動器102在x-y平面中的線性運動被變換成在x-y平面中的旋轉運動。例如,這種情況通過如圖12中所示出的板簧105、106、107、108、109、110、111、112的配置來實現。

      在上文所描述的任何實施例中,相對旋轉抖動運動具有例如在0.01微米至10微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值,可選地在0.05微米至5微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值,例如在0.1微米至2微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值,例如在0.5微米至1.5微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值。

      在上文所描述的任何實施例中,可選的附加的相對抖動運動例如具有在0.01微米至10微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值,可選地在0.05微米至5微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值,例如在0.1微米至2微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值,例如在0.5微米至1.5微米的范圍(端點被包括在該范圍內)內的幅值。

      在上文所描述的任何實施例中,相對旋轉抖動運動例如具有在100hz至10khz的范圍(端點被包括在該范圍內)內的抖動頻率,可選地在200hz至5khz的范圍(端點被包括在該范圍內)內的抖動頻率,例如在500hz至1.5khz的范圍(端點被包括在該范圍內)內的抖動頻率。

      在上文所描述的任何實施例中,可選的附加的抖動運動例如具有在100hz至10khz的范圍(端點被包括在該范圍內)內的抖動頻率,可選地在200hz至5khz的范圍(端點被包括在該范圍內)內的抖動頻率,例如在500hz至1.5khz的范圍(端點被包括在該范圍內)內的抖動頻率。

      抖動運動可以具有呈正弦形狀或正弦形狀的組合形式的速度輪廓。備選地或附加地,抖動運動可以具有速度輪廓,該速度輪廓具有階梯形狀、三角形形狀或梯形形狀。

      在抖動裝置50被配置成控制在襯底支撐件、光刻裝置或襯底檢查設備中已經可用的致動器(例如短行程模塊20的致動器或長行程模塊30的致動器)的情況下,開放回路控制信號可以被用于引起抖動運動。除了被用于控制受相應致動器影響的任何其他運動的控制信號之外,還可以應用這些開放回路控制信號。

      上文所提及的檢查設備可以是被布置成測量襯底w的性質的任何類型的設備。例如,檢查設備可以具有被布置成確定襯底w上的標記的位置的標記檢測系統。檢查設備可以測量相同層中的兩個標記之間或不同層上的兩個標記之間的相對位置。

      檢查設備可以與光刻設備集成。例如,首先將襯底w裝載在被布置在檢查設備的標記檢測系統附近的襯底支撐件1上。在檢查設備已經完成檢查之后,襯底w從被布置在標記檢測系統附近的襯底支撐件1被卸下,并且被裝載到被布置在光刻設備的投影系統ps附近的襯底支撐件1上??梢蕴峁┒鄠€旋轉抖動裝置;用于被布置在標記檢測系統附近的襯底支撐件1的旋轉抖動裝置50和用于被布置在投影系統p附近的襯底支撐件1的旋轉抖動裝置50。

      檢查設備可以包括電子束(e-beam)(電子束(electron-beam))裝置,該電子束裝置被布置成將電子束傳播到襯底w上,以確定成像在襯底w上的圖案的至少一部分的形狀和/或位置。

      盡管可以在本文中對光刻設備在ic的制造中的使用進行具體參考,但應理解,本文中所描述的光刻設備可具有其他應用??赡艿钠渌麘冒ㄖ圃旒晒鈱W系統、磁疇存儲器的引導和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(lcd)、薄膜磁頭等。

      盡管可在本文中在光刻設備的上下文中對本發明的實施例進行具體參考,但本發明的實施例可以被用于其他設備中。本發明的實施例可以形成掩模檢查設備、量測設備或測量或處理物體(諸如晶片(或其他襯底)或掩模(或其他圖案形成裝置))的任何設備的部分。這些設備一般可以被稱為光刻工具。這種光刻工具可以使用真空條件或環境(非真空)條件。

      盡管上文可能已經在光學光刻的上下文中對本發明的實施例的使用進行具體參考,但將了解,在上下文允許的情況下,本發明不限于光學光刻,并且可以被用于其他應用,例如壓印光刻。

      在上下文允許的情況下,本發明的實施例可以以硬件、固件、軟件或其任何組合實施。本發明的實施例也可以被實施為被存儲在機器可讀介質上的指令,這些指令可以由一個或多個處理器讀取和執行。機器可讀介質可以包括用于以機器(例如計算裝置)可讀的形式存儲和傳輸信息的任何機構。例如,機器可讀介質可以包括只讀存儲器(rom);隨機存取存儲器(ram);磁性存儲介質;光學存儲介質;閃速存儲器裝置;電信號、光信號、聲信號或其他形式的傳播信號(例如載波、紅外信號、數字信號等)等。進一步地,固件、軟件、例程、指令可以在本文中被描述為執行某些動作。然而,應了解,這種描述僅是出于方便起見,并且這種動作實際上是由執行固件、軟件、例程、指令等的計算裝置、處理器、控制器或其他裝置引起的,并且這樣做可能使得致動器或其他裝置與物理世界交互。

      雖然上文已經描述本發明的具體實施例,但將了解,本發明可以以不同于所描述的方式來實踐。上文描述旨在為說明性而非限制性的。因此,本領域的技術人員將明顯的是,可以如所描述在不脫離下文所闡述的權利要求書的范圍的情況下,對本發明進行修改。

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